ASML痛恨美国!国产激光设备厂商,成功研发出接近式光刻机

如波谈科技 2024-05-11 06:54:37

为了遏制中国高端芯片发展,美国与荷兰正在加紧谈判,不准ASML为中国客户提供服务,就在这关键时刻,ASMLCEO温宁克直接站了出来,宣布没有理由停止为中国服务,并且直接打响反美霸权制裁的第一枪。然而这仅仅是恨,还谈不到痛恨,而真正的痛恨就是,由于美国不断打压中国,经过中国国产激光设备厂商的不断努力,成功研发出接近式光刻机设备。这才是ASML痛恨美国的根源。

如今,美国对中国高科技产业的发展,可谓是草木皆兵。为了限制中国获得先进半导体技术,美国频频向荷兰、日本等盟友们施压,并且下了“死命令”,不仅制定对华销售禁令,此前中企购买的光刻机设备,也不准ASML再提供任何服务。美国步步紧逼,ASML不断退让,当退无可退的时候,ASML打响了第一枪,然而不久后就遭到了“反噬”。

为什么ASML要跳出来反对美国?这并不是想挑战美式霸权,而是自家产业耗不起。根据资料显示,随着中企和ASML的合作不断加深,中国已成为ASML光刻机销售的最大客户,贡献了49%的份额。然而,在美国刻意施压和限制出口后,导致ASML业绩“爆雷”了,营收、利润都出现大幅度下滑,订单直接下降超过60%,股价更是狂跌。即使ASML早有心理准备,但市场的反馈,也让这家巨头承受不起。

针对美国的刻意打压,我国外交部也发出警告,这与“国家安全”无关,而是一种经济胁迫。这将严重冲击国际供应链的稳定,这样自私自利的做法,迟早会搬起石头砸自己的脚。对美国的影响,咱尚且不清楚,但是ASML顺从美国政策后,已经遭到了市场“反噬”。因此,当美国和荷兰仍在讨论如何“对抗”中国时,东方大国直接对外亮明了态度。

东方大国表示美国用威胁“国家安全”的借口,蓄意打击中国芯片产业,不准中国高端产业发展。而美国自己,为了重振本土芯片产业,却向韩国三星集团提供64亿美元的补贴,甚至不顾他国企业的发展,损害他国企业的利益,以此来保持自己的领先地位。这种做法简直和强盗无异。

确实如此,美国不仅打压中国,连荷兰ASML也不放过,为什么美国可以横行霸道?难道没有谁能出来阻止吗?其实当技术处在高等级的一方时,它就可以成为卡别人脖子的工具。

所谓卡脖子实际上远远没有那么简单,卡脖子的从来不是单项技术,而是国家的整体实力。美国对我们虎视眈眈,他知道对手的薄弱部分,所以全力打击,就算不能阻止中国的崛起,但也要尽可能地拖延和阻挠你,为此可以突破一切道德底线,只要能打乱你的发展,就能维持我的霸权利益。而我们自己,唯有实现真正的自立自强,才能无惧于美国的威胁。

确实如此,当技术处在低等级一方时,技术反而成了“匹夫无罪,怀璧其罪”。在美国自有的一套霸权逻辑下,先进的生产技术必须属于美国,其他国家不要妄想发展,一旦动了念头就必须强力打压,中国是这套霸权体系的受害者,ASML同样也是受害者。

那么根据当前全球发展现状,中国究竟应该如何面对?为什么要说ASML痛恨美国呢?一切都没有那么简单,ASML痛恨美国不仅仅是业绩受损,以及失去中国这个大客户,特别是中国面临美国的横加阻挡,不断在光刻机领域突破核心技术,不管是清华大学的光源技术,还是华为的芯片叠加技术专利,包括国内厂商的测试技术以及封装技术,可以说这都是美国打压中国促进我们研发出来的核心技术。

最近有一则消息曝光,国产激光设备厂商,成功研发出接近式光刻机设备,此消息一出,立马震惊所有国家,特别是荷兰ASML一定万万没有想到,也正是因为如此,我认为ASML一定无比痛恨美国。

确实如此 ,近日,国内有一家激光设备厂家,研发出一种接近式光刻机,这是一种用于半导体芯片制造的重要设备,也被称为近场光刻机。它是一种通过近距离接触或接近式接触的方式,将光线聚焦到硅片上,以在微细的尺寸上模拟芯片电路图案的光刻技术。

在接近式光刻机中,光源会产生紫外线,经过光学系统将光线聚焦并通过掩模(photomask)上的细微图案。掩模上的图案会被投射到硅片上,通过光刻胶的曝光和显影过程,在硅片上形成芯片电路的图案。

与传统的光刻技术相比,接近式光刻机具有更高的分辨率和精度,可以制造出更微小、更复杂的芯片结构。它在芯片制造过程中扮演着关键的角色,对于提高芯片的性能和生产效率具有重要意义。那么这家光刻机设备厂商到底是谁?它究竟有多厉害?

其实它不是别的,就是大族激光,大族激光是亚洲最大的激光加工设备生产商,该公司研发的接近式光刻机已投入市场,其分辨率为3-5μm。此外,大族激光的步进式光刻机也已启动用户优化。

那么这种光刻机究竟能不能帮助我们突破技术封锁呢?它的诞生究竟对中国科技有什么意义和影响?

实际上,国内在接近式光刻机的不断研发,对中国科技在光刻机领域的发展有一定的积极意义。虽然接近式光刻机可能在技术水平上与先进的光刻机还有一定差距,但它的出现可以在一定程度上提升国内在光刻机方面的技术能力和制造经验,为进一步突破光刻机技术难题提供基础。

同时,这也体现了中国企业在光刻机领域不断努力和探索的精神,有助于推动整个行业的发展,减少对国外技术的依赖,逐步缓解光刻机“卡脖子”问题。但要彻底解决光刻机问题,还需要持续的投入和创新。

总之,罗马不是一天建成的,荷兰的EUV光刻机也不是荷兰一家独立完成的,更何况中国现在以一己之力对抗所有国家的科技技术,可以说现在这个研发速度,以及咱们突破的核心科技,相对来说,已经算是很快的了。最后不管怎么说,希望中国能早日崛起,也希望荷兰能早日摆脱美国控制,这样不仅是我们不用研发光刻机,就连荷兰也不怕光刻机销售不出去。

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