日本目前没有就半导体材料出口管制问题道歉的迹象，反而在光刻胶等关键领域采取“软性断供”策略，以审查为由拖延KrF、ArF光刻胶对华出口，试图制造供应链不确定性。然而，这把“刀”正加速中国自主替代进程。南大光电已实现ArF光刻胶量产，覆盖55nm至14nm节点，28nm通过中芯国际、华虹等大厂认证，7nm正在验证，缺陷密度和良率已达国际一流水平。其宁波基地2025年产能将扩至150吨，500吨新产线年底达产，已获中芯百吨级订单，排单至2026年。目前南大光电是国内唯一量产ArF光刻胶的企业，市占率有望在2026年达35%。公司还布局MO源和电子特气，形成材料闭环，成本低30%，价格仅为进口70%。一旦日本彻底断供，中国将全面启动国产替代，南大、彤程、晶瑞等企业将爆发式成长。而中国在稀土、镓、锗、钨等关键材料上的反制能力，足以让日本乃至全球半导体产业链承受巨大压力。日本为美国“火中取栗”，赌上技术优势，却可能亲手将中国推向半导体材料自主的快车道。这场博弈，比的不是谁卡谁脖子，而是谁更有韧性与意志。
