一直以来，ASML光刻机引发全网热议。主要原因有两个方面，一是光刻机作为一款价值连城的精密设备，对全球科技的发展拥有重要的意义和影响，二是中美双方围绕光刻机展开了一系列的科技大战，三是美国背后的动机，以及相关窃取先进技术的核心机密，都让光刻机的话题引发了不少人们的深思和反响。也正是因为如此，全球不少人士都在关注光刻机发展的最新动态。

据最新消息报道，ASML研发出一种全新的（High NA）EUV 光刻机设备，简称NAEUV光刻机，此款设备相比以前的EUV光刻机的0.33 数值孔径，直接增加到了 0.55，不仅如此，NAEUV光刻机还拥有 1.7 倍于目前 0.33NA EUV 光刻机的一维密度，在二维尺度上可更是实现 190% 的密度提升，简单来说就是可以光刻出栅极更小的芯片产品，我们常说的台积电以及三星的3nm全球顶级芯片，正是利用荷兰ASML的EUV光刻机生产的，而NAEUV光刻机则是可以生产2nm芯片产品的芯片制造设备。

我们都知道，中国正致力于减少对国外光刻机技术的依赖，并将半导体产业作为国家战略发展重点。政府通过政策和资金支持推动国内光刻机的研发和产业化，特别在“中国制造2025”计划中强调了集成电路制造技术的提升。科研机构和企业，如上海微电子装备公司，正加大研发投入，开发先进封装和MEMS器件的光刻机。部分技术已达到90nm制程节点，正在向28nm浸没式光刻机发展。高校与企业合作，推动技术商业化，并培养相关人才。中芯片国际方面更是直接采用华为的多重曝光技术，利用DUV光刻机打造出国产高端芯片产品。同时华为也没有放弃投入研发光刻机，相信很快就会迎来突破。

从此不难看出，尽管中国在光刻机领域有所进展，但在EUV等先进技术上仍有差距。特别是ASML又研发出更加先进的NAEUV光刻机，这种差距将会越拉越大，不过值得庆幸的是，根据央媒曝光的重大消息显示，中国有望实现换道超车，此次换道超车不同与以往，以往我们总是说弯道超车，弯道超车指的是通过技术手段在同一个赛道超过他们，而换道超车则是寻找一条康庄大道快速超过他们，而这个道就是央视指出的玻璃芯片技术，是美国以及其它西方国家都没有拥有的技术，当然，虽说这是央视的报道，可是目前要成熟应用在市场和产业链之中，还有一定的困难和挑战，希望归希望，咱们总归要回到现实中来。

这个现实就是，ASML先进光刻机横空出世，究竟有哪些厂商可以使用它呢？按照以往惯例，台积电和三星是ASML最大的客户之一，ASML也会优先供应给他们，同样，美国芯片禁令仍然没有解除，而且还对中国芯片产业加强了限制和管控，因此中国不可能得到哪怕是一台NAEUV光刻机，那么现在的发展现状是什么呢？

近日，英特尔正式宣布，完成了世界首台商用高数值孔径（High NA）EUV 光刻机的安装，安装是的数量更是高达6台，行内人士都知道，由于 ASML 的高数值孔径 EUV 设备产能每年约为 5 到 6 台，这意味着英特尔已经获得所有初始库存，从此我们不难看出，台积电和三星方面还没有任何消息，英特尔就已经安装完成了，甚至把库存全部给抢光了。这是不是意味着美国芯片厂商会一家独占这种先进的芯片制造设备呢？

确实如此，从美国近期的芯片管制规则我们不难看出，他们不仅不允许荷兰出售光刻机，而且还不允许其工程师前往中国维护旧设备，除此之外，美国方面为了限制中国拥有AI芯片，不惜拦截自家企业销往澳大利亚的订单，这林林种种意味着什么？那就是美国要想尽一切办法阻止我们拥有先进技术，那么ASML的NAEUV光刻机或许不会出售给台积电或三星，可以说连台积电和三星都得不到，那么其它芯片厂商就更加不可能了。为什么？正所谓山高皇帝远，谁知道台积电和三星会不会背后里偷偷转卖光刻机呢？可以说美国现在是小心驶得万年船。

不得不说，根据当前发展现状来分析，很大概率会出现这种结果，那么中国芯片产业应该如何应对呢？您对此有什么看法和观点？欢迎在评论区留言讨论。我认为只能把希望寄托在华为身上了。