[微风]荷兰光刻机巨头ASML表示，现在在美国的技术封锁下，中企想获取EUV光刻机几乎不可能了，但是中国一直没有放弃，研发投入每年增速超过20%。 越是被卡脖子，中国的研发劲头越足，硬是在绝境里拼出了新出路。 要是不懂行，可能不知道光刻机有多关键。这机器堪称造芯片的 “超级精密机床”，芯片又是手机、电脑、汽车的 “大脑”，没有它，高端芯片就是 “无米之炊”。 ASML 的 EUV 光刻机更是能造 7nm 以下的尖端芯片，全球就它能造，以前咱们想花钱买都得看别人脸色，现在直接被彻底卡住了。但中国没像有些人想的那样停下来，反而把压力变成了动力。 就在 2025 年 9 月，工信部和中科院牵头成立了 “华夏之光项目处”，拉上清华、上海交大这些高校，还有中微公司、北方华创这些企业，搞起了全国性的协同攻关。 更让人振奋的是，自主研发的 “羲之” 光刻机已经完成验证测试，光学系统、光源这些核心部分都实现了自主可控，在 28 纳米到 7 纳米的制程里都能用。这可不是随便凑出来的机器，光是中科院光电所打磨的光学镜头，精度差几个纳米就得推倒重来，背后是十余年的反复试错。 可能有人会问，没有 EUV 真的能行吗？业内专家早说了，EUV 不是唯一的答案，高性能 DUV 光刻机在很多领域都够用。 “羲之” 就用了清华大学和上海交大联合开发的深紫外光源，再加上北方华创搞的纳米级精度控制，一样能实现高端制程。而且中芯国际、长江存储这些企业已经用它做了多轮测试，很快就能往量产推进了。 更关键的是，突围的不只是光刻机本身，整个产业链都在跟着发力。深圳湾芯展上，新凯来虽然没展出光刻机，但旗下公司拿出了 90GHz 的超高速示波器，性能直接提升 500%，打破了国外垄断。 要知道，测量设备跟不上，芯片造得再好也没法验证，这步突破等于给光刻机落地扫清了障碍。他们还在研发沉浸式 DUV 光刻物镜技术，被业内看成破解 ASML 垄断的 “种子选手”，最近一轮融资就想拿 28 亿美元全砸进研发。 资金和市场也在给研发托底。2024 年咱们花了 410 亿美元买半导体设备，占全球四成，这么大的市场需求就是研发的底气。 北方华创 2025 年第一季度光研发就花了 10.26 亿元，增速超 40%；中微公司更狠，研发投入占营收比例达到 31.6%。现在国产设备的渗透率已经从之前的 11.3% 涨到了 15%，虽然还不算高，但每一步都走得很扎实。 ASML 说 EUV “几乎不可能” 拿到，但中国用行动给出了另一种答案：就算没有现成的，咱们也能自己造出来。 从 “羲之” 光刻机突破到全产业链协同，从每年 20% 的研发增速到百亿级的资金投入，这场攻坚战已经打响。你觉得中国多久能实现高端光刻机的完全自主？咱们评论区里聊聊。
