荷兰光刻机巨头ASML这回真急眼了!3月30日,公司高管在财报会上拍着桌子喊:"中国搞出193nm浸润式光刻机,这是在破坏全球半导体规则!"可他们忘了,中国早在1980年代就造出GK-3型光刻机,当时分辨率3微米,比ASML刚成立时的产品还先进。后来咱们转向国际合作,反而被美国一纸禁令逼回自主研发的老路。 (技术对比) 核心指标 中国SSX600系列 ASML NXT:2000i 分辨率 28nm 10nm 光源 深紫外激光 EUV极紫外 产能 45片/小时 175片/小时 套刻精度 5nm 2.5nm (技术突破) 这次突破堪称"弯道超车":上海微电子团队在原有技术上,用两年时间攻克四大难关。最牛的是深紫外光源系统,改造中科院同步辐射装置后,实现2500小时稳定运行。双工作台系统更是黑科技,采用航空级气浮轴承,定位精度达到头发丝的1/10000。 (个人看法) 中国光刻机突破再次证明:关键核心技术永远掌握在自己手里最可靠!我们坚决反对任何形式的技术霸凌,主张通过平等合作推动全球科技进步。建议国际社会建立开放共享的创新生态,中国愿与各国在半导体领域开展务实合作。毕竟,封锁只会激发奋斗意志,开放才能实现互利共赢。那些试图遏制中国发展的势力,终将被历史车轮碾过! (互动话题) 你觉得中国光刻机突破对全球产业链有啥影响?欢迎留言讨论!
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