一位自媒体博主发布了一条消息，指出中国的EUV光刻机已经在东莞的一家工厂进入测试阶段。
这是一个令人振奋的消息，因为ASML的高管预测中国还需要等几年才可能研发出EUV光刻机，曾在大陆待了二十年的台湾半导体专家，也指出大陆的EUV光刻机再等3、5年才会出现，即使出来了，良品率也会很低。
这位博主表示，在测试阶段，中国EVU光刻机的良品率可达到70%。这可是半导体加工的一个分水岭，说明中国EUV光刻机的性能非常好。如果继续改进工艺的话，良品率可能还会继续提升。
目前，还无法判断这条消息的是否属实，但是她强调后续可能会有媒体发布相关的信息。到那时，我们才会知道这是否是真消息。
如果光刻机的问题解决了，那么设计软件，光刻胶等相关的软件和耗材，也会得到解决！
这再一次证明，只要我们脚踏实地的做研究，总会有解决卡脖子的那一天。
![深夜传来天大的好消息：5nm产线调通，即将批量生产[666]之前3月份来自半导](http://image.uczzd.cn/16242700508479272415.jpg?id=0)
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