美国智库发布报告：中国半导体光刻技术进展滞后，还远远落后于荷兰阿斯麦（ASML）和日本尼康（Nikon）。但华为内部可能正在开发的高端机台并未被计入其中，目前美国人唯一搞不清的就是华为内部到底有没有高端光刻机。 网友表示： 光刻机不会比六代机更难，光刻机落后是布局太晚，总是需要一些时间去开发去完善，相信很快会有横空出世的那一天，美国人的脑袋又要崩裂了。 芯片全产业链，谈何容易，美国自己都做不到 对此，你怎么看？ 中国光刻技术