首台国产光刻机“stepper 光刻机”正式出厂交付！stepper 光刻机是由中国科汇华晟研制生产的。 stepper 光刻机工作的原理： Stepper 光刻机的工作原理基于“步进投影”技术，它通过将光源发出的光通过一系列光学元件（如透镜和掩模）投影到硅片上的光刻胶层，形成图案。Stepper 光刻机采用的是逐步曝光的方式，即每次曝光一个图案区域，曝光完成后，光刻机会精确地将硅片移动一个固定的步进距离，再进行下一次曝光。 Stepper 光刻机光源采用紫外光 UV 或深紫外光 DUV，这不同于荷兰 ASML 的极些外光 EUV。目前 EUV 主要用于高端芯片 2/5/7 纳米制程使用，而 EUV 技术主要被西方国家掌控！ 而国产的Stepper 光刻机能够实现非常高的曝光精度，分辨率通常可以达到几十纳米甚至更小。Stepper 光刻机的机械和光学系统非常精密且稳定，能够持续性工作很我合适于量产生产。 目前Stepper 光刻机主要用在咱们的 28 纳米左右的成熟芯片制程，而 28nm 左右的制程很适合在工业 或汽车设备上使用，占芯片使用率的 50% 之多，这对中国来说是一个很大的使用量及出口量，而 EUV 高端的芯片主要用于手机 电脑 等高端产品使用！ 所以Stepper 光刻机的国产化，可以表明中国的光刻机 DUV 不要需要进口了，有国产的就可以使用了，这是中国科技业内的又一大进步，下一次将攻克 EUV 光刻机也不远了！
