估值6000亿的上海微电子，其最新的光刻机已经走到哪一步了？
上海微电子自主研发的28nm浸没式光刻机技术已实现28nm量产能力，并通过多重曝光可延伸至7nm制程，意味着上海微电子光刻机已经走到可以生产7纳米先进制程芯片的进程。
上海微电子28nm DUV光刻机，型号为 SSA800/10i型浸没式光刻机，在2025年5月交付首台验证机，7月份宣布稳定量产，年产能目标预计在100台。每小时最高可处理200片晶圆，效率已接近阿斯麦ASML同型号的80%。同时该光刻机关键部件国产化率超60%，总制造成本较阿斯麦ASML光刻机设备低30%，已获国内晶圆代工企业中芯国际、华虹公司、积塔半导体的订单。
上海微电子28nm DUV光刻机设备的规模化量产及应用，为国内在芯片成熟制程领域实现自主可控打下了坚实基础。中芯国际、华虹公司等晶圆代工巨头采用国产光刻机后，将大幅降低设备成本，同时也不再受制于国外阿斯麦光刻机的制约，晶圆代工将获得突破性进展！
![国产自主研发自可控的：3nm国产光刻机已经开始小批量量产了，[滑稽笑][笑而不](http://image.uczzd.cn/4666125226314651674.jpg?id=0)
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