快报！快报！ 荷兰限制光刻机出口 荷兰已明确将光刻机出口管制门槛从7纳米提升至14纳米，ASML的DUV机型1970i、1980i被纳入管制，这相比美国此前要求的“仅出口5纳米以上光刻机”，确实进一步向美国的对华技术遏制政策靠拢。 这一决策的核心背景是美国的施压：美国通过在ASML的股份关联、核心零部件供应优势，迫使荷兰配合其遏制中国半导体产业升级的战略，此举客观上破坏了全球半导体产业的正常供应链秩序。 但说荷兰“不在乎自身损失、只为替美国办事”并不客观——中国是ASML的重要市场，约占其营收20%，出口限制必然冲击ASML业绩，进而影响荷兰经济，荷兰实际是在美欧盟友关系与自身经济利益间做出的艰难妥协，而非完全无视损失。 面对管制，中国加大自主研发投入是明确趋势：28纳米DUV光刻机已实现交付，展现了自主研发的决心与阶段性成果。 基于这一基础，中国会持续推进更高技术水平的研发突破，但需客观看待研发难度，更高制程的突破需要技术积累与产业链协同，随着投入加大与技术迭代，实现关键技术自主将是大概率事件。 荷兰跟着美国升级光刻机管制，把14纳米以上都限制了，说白了就是被美国架着走！ 一边是美国靠股份、零部件施压，一边是丢中国这个大市场，ASML业绩得受影响，荷兰自己也没好处，纯属两难下的妥协。 这事儿也给咱们提了个醒：核心技术靠别人根本不靠谱，关键时刻说卡就卡。 好在咱们28纳米DUV光刻机已经交付，自主研发有了实打实的进展。 接下来就该接着使劲，一步步突破更高制程，毕竟技术这东西，自己握在手里才真踏实，谁也别想再用技术限制拿捏咱们！ 各位读者朋友你们有什么看法，欢迎大家评论区留言讨论
