A 股光刻机领域十家代表性公司观察整理1．张江高科高科技园区开发运营＋战略投资，通过子公司持有上海微电子10.78％股权（国内唯一能量产90nm光刻机并研发28nm的整机厂商）,是国产光刻机产业链的核心战略投资者。2．南大光电电子特气＋光刻胶双轮驱动。 MO 源（金属有机化合物）全球市占率约35%，国内第一； ArF 光刻胶实现50吨／年量产，是国内唯一通过中芯国际14nm验证的28nm及以下高端光刻胶供应商，打破日本企业垄断。3．福晶科技非线性光学晶体＋精密光学元件。 LBO / BBO 晶体全球市占率分别达80%/50%；为上海微电子提供光场匀化器、高精度光栅等核心光学元件，是光刻机光系统的"心脏"供应商。4．茂莱光学高端光学系统＋光刻机光学元件。国内唯一能成套商业化量产"曝光镜片组"的厂商，占曝光物镜50％价值量；产品覆盖光刻机匀光系统、投影物镜等核心部件，技术精度达纳米级，部分通过 ASML 认证。5．凯美特气电子特种气体＋光刻气。国内唯一同时通过 ASML 子公司 Cymer 和日本 GIGAPHOTON 双重认证的光刻气供应商，产品纯度达99.9999%，支撑 KrF / ArF / EUV 等光刻机光源系统，是国产光刻胶落地的关键支撑。6．新莱应材高纯真空系统＋气体管路。为光刻机提供 AdvanTorr 真空阀门、 NanoPure 气体传输系统，解决光刻机"气路污染"卡脖子问题，已稳定进入中芯国际、长江存储供应链，2025年光刻机相关订单同比增120%。7．蓝英装备高端工业清洗＋表面处理。瑞士子公司 UCM AG 为 ASML 全球唯一认证的光刻机光学系统清洗设备供应商，技术精度达纳米级（颗粒残留＜0.1μ m )，市场占有率超70%，直接服务 EUV 光刻机核心光学部件。8．芯基微装微纳直写光刻设备。全球 PCB 直写光刻设备市占率约15%，专注于 PCB 直接成像、泛半导体直写光刻等设备研发生产，技术覆盖微米到纳米级光刻环节，已获头部封测企业订单。9．奥普光电光电测控＋高端光学元件。与长春光机所合作，为光刻机提供高精度光栅编码器（定位精度达纳米级）和光学材料；通过合资公司长光集智布局 EUV 光刻物镜系统，面形精度达0.08nm。10．苏大维格微纳光学＋激光直写光刻设备。定位光栅技术国内领先，将光刻机定位误差降至＋1.5nm,是上海微电子28nm光刻机的关键组件供应商；自主研发的激光直写光刻机和纳米压印设备可应用于先进封装、 AR / VR 等领域。金融财经知识分享官股票财经股票财经股票股票股市分析炒股技巧现货黄金炒股技巧炒股今日看盘a股
